离子束轰击的ZrO_2—8wt％Y_2O_3薄膜的XPS分析 CNKI文献
对不同剂量离子束轰击的ZrO_2—8wt%Y_2O_3薄膜进行了XPS全扫描和窄扫描能谱的测量。结果表明,薄膜表面的碳沾污浓度与轰击离子的剂量有关;薄膜的体内部份是由标准化学配比的ZrO_2及Y_2O_3组成,Zr、Y氧化态不随轰击剂...
关键词： 离子束轰击 / ZrO_2-8wt％Y_2O_3薄膜 / XPS分析
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Impact toughness of tungsten films deposited on marten... CNKI文献
Tungsten films were deposited on stainless steel Charpy specimens by magnetron sputtering followed by electron beam heat treatment. Charpy impact tests and scanning electron microscopy were used to i...
黄宁康 杨斌... 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 2005年05期 期刊
前言 金属表面的激光处理是七十年代初发展起来的一项新技术,由于其独特的加热方式,给金属表面处理带来了一些新概念和新趋势。 激光是一种清洁、可遥控的热源,它可用来处理金属表面的一个点,一条线或一个小区域,这种...
氩离子辐照对ZrO_2-Y_2O_3薄膜的结构影响 CNKI文献
为了研究离子辐照对薄膜结构的影响,对氩离子辐照磁控溅射沉积的ZrO_2-8%(m/m)Y_20_3薄膜,用XRD、AES及XPS进行微观分析。结果表明,溅射沉积的无定形薄膜经离子辐照后发生了晶化,膜内元素与基体元素发生了显著的混合,...
黄宁康 冯志蓉... 《原子能科学技术》 1992年06期 期刊
关键词： 离子辐照 / 磁控溅射ZrO_2-8%(m/m)Y_2O_3薄膜 / 微观分析
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直流平面磁控(DC-PM)溅射沉积的司太立合金薄膜经电子束熔凝处理后,可获得与基体具有良好冶金结合的包复层。包复层中钨的含量,晶粒尺寸以及被基体稀释的程度将影响包复层的显微硬度。
2Crl3不锈钢基体上190keV氮离子辐照磁控溅射沉积司太立合金的试样,在0.5mol/1H_2SO_4及0.1mol/l NaCl溶液中采用三电极动电位扫描法测定试样的阳极极化曲线,并通过RBS及XPS分析.对氮离子在不同介质中的抗蚀行为进行了...
目前相当部分的中职学生急功近利心理较重,会对其身心发展不利。本文列举了中职学生急功近利心理的种种主要表现,并提出了相应的教育对策。
本文研究了不锈钢基体上电子束熔凝高压喷涂司太立合金覆层的组织结构、显微成分、残余应力及其表面性能。实验结果表明,包覆层晶粒细化,覆层中含有少量Cr_2O_3和CoFe_2O_4,合金元素分布均匀,表面呈压应力状态,表面性...
本设备由以下系统组成:注入系统,有溅射离子源及不对称三电极加速管,能量50keV,流强4mA(N~+);电子束系统,能量45keV,功率密度10~2—10~6W/ cm~2;配备微机程序的束偏摆装置;靶材易换的磁控溅射靶;可作旋转、平移、升降...
离子束溅射沉积锆的同时以氧离子轰击形成Zr－O薄膜，经RBS及XPS分析表明薄膜由3部分组成：表面碳沾污层；Zr－O膜体；膜与基体的界面过渡层。氧离子束流密度从0.8μA／cm2增至30μA／cm2，膜体的[O]／[Zr]原子比值由...
对离子束反应溅射沉积过程中,同时经氩离子束轰击形成的氧化锆薄膜进行了RBS,XPS,TEM及XRD的微观分析。结果表明,在本实验条件下的形成膜体部分为标准化学计量配比的ZrO_2;形成膜由非晶和微晶构成,晶化程度与薄膜沉积...
作为高功率密度热源的电子束,在金属表面处理方面大致可分为三种应用:电子束表面淬火、电子束合金化及电子束上釉。本文将对这三种工艺作一介绍,同时给出一些实例。
Electron Spectroscopy Studies on SiC Films before and ... CNKI文献
The ion beam mixing prepared SiC films on stainless steel substrates were irradiated by hydrogen ion beam with an energy of 5 keV to a dose of 1×10~(18) ions/cm~2. AES and XPS were used for the ...
黄宁康 《Journal of Wuhan University of Technology-Materials Sci...》 2005年02期 期刊
双束沉积ZrO_x薄膜时O~+束流密度对其折射率的影响 CNKI文献
双离子束技术制备薄膜有以下几个特点:(1)沉积工艺参数可分别调节、控制,相互牵制性小,因而可自动控制程序进行薄膜的制备,从而提高了重复性;(2)由于离子轰击的混合效应,薄膜与基体具有很好的结合强度;(3)离子束能量的...
关键词： dual / beam / technology / ZrOxthin
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本文简要介绍动态离子束混合技术制备薄膜的原理及其特点，通过形成膜的分析了解有关影响生成膜性质的若干因素。
C_0—Cr—Al—y 涂层的激光熔融处理及其氧化行为 CNKI文献
本文简述了C_0—Cr—A1—y涂层的激光熔融处理的实验情况,并研究了处理后的氧化行为,结果表明:处理的涂层与基体呈冶金结合;试样在1000—1180℃大气中用不同的时间进行氧化试验,尽管涂层受到稀释,处理后的包复层有微裂...
爆炸喷镀Co-Cr-W合金层经电子束熔化基体自冷凝后的微观分析 CNKI文献
本文研究了爆炸喷镀Co-Cr-w合金层经电子束熔化基体自冷凝的显微组织、结构及成分。分析结果表明:电子束熔化处理的喷镀层与基体呈金相结合;镀层內气孔和夹杂大幅度减少,结晶组织细化,熔区内合金元素分布均勻。
电子束和热退火后处理的射频溅射沉积ZrO_2－Y_2O_3薄膜的结... CNKI文献
对射频磁控溅射沉积的ＺｒＯ２－１２ｗｔ％Ｙ２Ｏ３薄膜进行了电子束处理和热退火处理．通过ＸＲＤ、ＸＰＳ、ＳＥＭ等的微观分析，研究了薄膜的相结构组成、薄膜主要组成元素的氧化态以及薄膜的形貌特征。并对以提高...
关键词： 薄膜 / ZrO_2－Y_2O_3 / 后处理
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离子束-电子束-原子束结合沉积技术制成膜的形貌特征 CNKI文献
简要介绍离子束-电子束-原子束结合沉积技术的原理及特点,并对该技术制备的各种合金、陶瓷以及复合膜的形貌特征进行了分析研究。
关键词： 离子束-电子束-原子束结合沉积技术 / 制膜 / 形貌特征
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