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纳米级电路分辨率增强技术及热点检测技术研究  CNKI文献

遵循摩尔定律的轨迹,集成电路的发展进入纳米级时代。光刻是集成电路制造的核心步骤,但是由于光源技术发展的滞后,193纳米波长光刻仍然是纳米级集成电路制造的主要选择。当集成电路发展到90纳米以及以下工艺节点时,使...

罗凯升 导师:何乐年 浙江大学 2014-06-30 博士论文

关键词: 分辨率增强技术 / 光学邻近校正 / 反向光刻技术 / 版图重定向

下载(213)| 被引(3)

圈闭评价与油气勘探决策  CNKI文献

圈闭综合评价是依据圈闭条件、石油地质条件、经济条件,综合反映圈闭品质的过程.综合评价的结论可直观地、快捷地为勘探决策提供重要依据.本文在综合分析准噶尔盆地已知油气藏和已钻圈闭的石油地质研究成果的基础上,进...

罗凯升 贾希玉... 《新疆石油地质》 1997年01期 期刊

关键词: 圈闭 / 综合评价 / 油气勘探

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用于光刻系统仿真的多边形处理算法  CNKI文献

为提高光刻仿真效率,通过对光刻原理进行研究,提出了2种多边形处理算法,将掩模上的多边形图案进行切分优化,将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统,设计的具体光学参数为:...

吕楠 史峥... 《传感器与微系统》 2014年09期 期刊

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使用测试图形法优化亚分辨率辅助图形  CNKI文献

在亚波长光刻领域,基于规则插入亚分辨率辅助图形是一种重要的技术。现有的方法需要利用经验改善亚分辨率辅助图形,且不考虑光学邻近校正的效果。提出了一种新的利用测试图形优化亚分辨率辅助图形的方法。与一般的光学...

齐晶 史峥... 《华东理工大学学报(自然科学版)》 2012年03期 期刊

关键词: 可制造性设计 / 光刻 / 亚分辨率辅助图形 / 光学邻近校正

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