采用溶胶 凝胶法在Si衬底上制备了钛酸镧铅薄膜。通过对膜进行XRD、SEM、介电和铁电性能测试 ,研究了退火条件和掺镧量对薄膜性能的影响 ,结果发现在 60 0℃下退火 1h的PLT薄膜呈现钙钛矿结构 ;常温下 ,薄膜的矫顽场...
微波ECR-CVD法制备a-C:F:H膜的红外吸收及其光学带隙 CNKI文献
改变CHF3 CH4 流量比R =[CHF3] ([CHF3]+[CH4 ]) ,采用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积 (MWECR CVD)方法沉积a C :F :H薄膜。a C :F :H薄膜的结构和光学带隙使用傅立叶变换红外光谱和紫外 可见光谱来表征。红外...
使用双离子束溅射法制得了铁氮薄膜 ,随着基片温度的变化 ,薄膜的成分是ε Fe2～ 3N、γ′ Fe4 N或是二相的混合物 ,薄膜的晶粒尺寸随基片温度的升高而增大。以振动样品磁强计(VSM)测定了薄膜的磁性能。另外 ,研究了在...
Experimental Study on RF Hollow Cathode Discharge CNKI文献
By using a longitudinal static magnetic field, we have shown that it is possible to excite an intensive plasma in a simple stainless steel tube which is connected with a RF power supply. Under certai...
甘肇强 吴雪梅 ... 《Plasma Science & Technology》 2001年06期 期刊
关键词： RF / Experimental / Study / on
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本文叙述了穆斯堡尔谱仪激光干涉绝对测速的方法,介绍了一台配用高精度穆斯堡尔谱仪的激光测速装置,其测速范围为±5mm/s～±300mm/s,并具有穆斯堡尔谱与速度谱同时测量的性能。本文列举了部分测试结果,
烘烤温度对溶胶-凝胶法制备镧掺杂钛酸铋薄膜结构与铁电性质... CNKI文献
采用溶胶 凝胶法 ,在保持薄膜结晶温度和有机物分解温度相同情况下 ,发现烘烤温度 (即溶剂的挥发温度 )对镧掺杂钛酸铋薄膜的晶体结构、表面形貌和铁电性质均产生重要影响 .在较低烘烤温度下得到的薄膜 (117)择优取向...
氧分压强和基片温度对脉冲激光沉积的ZnO∶Al膜性能的影响 CNKI文献
利用脉冲激光法制备了ZnO∶Al透明导电膜。通过对膜进行霍尔系数测量及SEM、XRD测试分析 ,详细研究了沉积时的基片温度、氧分压强对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明 :基片温度、氧分压强影响着膜的电学、光学性能...
溶胶-凝胶法制备钛酸锶铅薄膜和多层膜及其介电性质 CNKI文献
采用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了多种不同组分的(Pb1-xSrx)TiO3(PST)(x=0.45、0.50、0.55、0.60、0.65)均匀薄膜和多层膜,并研究了它们的介电性质。发现均匀薄膜在x=0.55(PST55)时有最大的介电常数,10kHz...
利用射频磁控溅射法成功制备了类金刚石薄膜，研究了溅射功率和基片温度对所沉积的薄膜的性能的影响．对所制备的类金刚石薄膜用拉曼光谱、紫外光谱进行了表征，所沉积的类金刚石碳薄膜是簇状分布的ＳＰ２ 碳键和网状...
ECR-CVD法制备的a-C:F:H薄膜在N_2气氛中的热退火研究 CNKI文献
改变CHF3 CH4源气体流量比 ,使用微波电子回旋共振化学气相沉积方法 (ECR CVD)制备了具有不同C—F键结构的a C :F :H薄膜 ,着重研究了退火对其结构的影响 .结果显示薄膜的厚度及其光学带隙E0 4随退火温度的上升均呈现...
关键词： 电子回旋共振化学气相沉积 / 红外吸收光谱 / 热退火 / 光学带隙
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不同CHF_3/CH_4流量比下沉积a-C∶F∶H薄膜键结构的红外分析 CNKI文献
通过微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积方法使用CH4 CHF3源气体制备a C∶F∶H薄膜 .红外结果表明 ,a C∶F∶H薄膜随着流量比R =[CHF3] [CHF3]+[CH4])的变化存在结构上的演变 ,R <6 4%时 ,薄膜主要是以类金刚石...
基片温度对电子束蒸发沉积的ZnO:Al膜性能的影响 CNKI文献
使用电子束蒸发法沉积了铝掺杂的氧化锌透明导电膜。通过对膜进行霍尔系数测量及XRD测试分析,详细研究了沉积时的基片温度对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明,基片温度影响膜的载流子浓度、迁移率以及膜的结晶程度...
微波ECR-CVD的宏观参数对a-C:F膜结构的影响 CNKI文献
利用CH_4和CF_4混合气体在微波等离子体ECR反应槽中不对基片加热和施加偏压的条件下沉积a-C:F膜.本文主要使用傅立叶变换红外吸收光谱(FTIR)技术来研究沉积气压、[CH_4]/[CF_4]流量比R与薄膜结构之间的关系.FTIR谱显示...
辛煜 方亮... 第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集 2001-10-01 中国会议
关键词： 微波等离子体ECR技术 / FTIR技术 / α-C / F
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微波电子回旋共振-化学气相沉积SiN_x薄膜的光学性能研究 CNKI文献
研究了微波电子回旋共振－化学气相沉积ＳｉＮｘ薄膜的光学性能，这种ＳｉＮｘ薄膜具有透光谱宽、透光率高的特点，总结了透光谱、折射率、光隙能随微波功率、基片温度的变化关系
关键词： 氮化硅薄膜 / 光学性能 / 微波电子回旋共振－化学气相沉积
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HfO_2在CHF_3,Ar和H_2的感应耦合等离子体中的刻蚀行为 CNKI文献
通过改变偏压功率和气体气压的宏观条件 ,利用CHF3 ,Ar和H2 的感应耦合等离子体 (ICP)对HfO2 和RZJ 30 6光刻胶进行了刻蚀选择性实验研究。结果表明 ,HfO2 与等离子体化学相互作用的刻蚀产物属于非挥发性的 ,容易造成...
研究了微波电子回旋共振等离子体化学汽相沉积低温氮化硅薄膜在５—１０６Ｈｚ频率范围内的介电性能．由于低温氮化硅薄膜为具有分形结构的纳米非晶薄膜，致使氮化硅薄膜的介电谱、损耗谱在低频区和高频区具有两种不同...
关键词： 氮化硅薄膜 / 非晶薄膜 / 化学汽相沉积 / 电子回旋共振等离子体
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掺杂比对脉冲激光沉积的ZnO:Al膜性能的影响 CNKI文献
用脉冲激光法制备了ZnO :Al透明导电膜。通过对膜的霍尔系数测量及SEM、XRD分析 ,详细研究了靶材中的化学配比 (掺杂比 )对膜的透光率和电阻率的影响。结果表明 :掺杂比影响着膜的电学、光学性能和膜的结晶状况。掺杂...
用射频磁控溅射法成功地制备了非晶碳薄膜及掺氮非晶碳薄膜。拉曼光谱表征表明所沉积的非晶碳薄膜是非晶结构，具有类金刚石特性。对所制备的掺氮非晶碳薄膜用光电子能谱和红外光谱进行了表征。同时还研究了两种薄膜的...
在低温和常压下，通过电解甲醇和氨水混合溶液，在硅基片上进行沉积掺氮碳膜的尝试，得到了含氮8％的类金刚石薄膜。通过拉曼光谱和X光电子能谱对样品的测试表明：碳和氨在薄膜中是以SP2和SP3进行化学成键的。本文还提...
