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磁控溅射的特点及应用——化合物溅射膜中观察到的有趣现象  CNKI文献

本文首先叙述了磁控溅射中的两种放电模式,第一种模式出现在低于1000高斯的弱磁场下.在这种模式中放电时占优势的空间电荷是正的(PSC模式),用PSC模式溅射对制作半导体器件的互联和电极有用,第二种模式出现在高于1000高...

和佐清孝·早川茂 陈肖 《压电与声光》 1980年01期 期刊

关键词: 溅射 / 放电模式 / 辉光放电 / 高斯

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